真空蒸发镀膜原理
真空蒸发镀膜原理图如图10-1所示。http://www.comvac.cn/uploadfile/2014/0507/20140507015539591.jpg
将膜材置于真空室中，通过蒸发源加热使其蒸发，蒸气的原子或分子从蒸发源表面逸出，由于空间气体分子的平均自由程大于真空室的线性尺寸，因此很少与其它分子或原子碰撞，可直接到达被镀的基片表面上，凝结后形成薄膜。
在蒸发过程中的真空条件是：真空室中由膜材蒸发出来的原子（分子）平均自由程应大于蒸发源与基片之间的距离。
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