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真空镀膜概述

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发表于 2014-5-9 06:39:00 | 显示全部楼层 |阅读模式
  现代薄膜技术的开拓者是德国学者马克斯·奥维将教授,早在20世纪30年代中期,他已开始研究和生产光学薄膜。经半个世纪后,薄膜应用已遍及国民经济各个领域。
  
  在机械行业,镀层刀具已得到广泛应用,镀层主要是TiN、TiC以及二者的复合镀层,还有Al203等,镀层厚度2μm~10μm。大量的廉价刀具(如钻头、丝锥),镀TiN镀层后可以加大进刀量,提高切削速度,提高生产率。工模具、量刃具、精密轴承及其它易磨损件,在表面沉积耐磨镀层(如TiC等),可大大提高使用寿命。
  
  在航空工业中,涡轮发动机工作温度很高,在发动机叶片上溅射一层Co-Cr-Al-Y合金后,对其抗高温氧化和抗腐蚀性能有明显的效果。如果镀上一层ATD-1型合金(35%~41%Cr,10%~12%AI,25%Y,其余为Ni),也具有良好的抗氧化和抗热腐蚀性能,它的寿命为通常燃气涡轮部件的氧化铝镀层的1倍~3倍。
  
  航天设备有的要在超高真空、射线辐照、高温下工作,在这种恶劣环境下,一般液体润滑剂已无能为力,而航天发动机的功率及其结构相寿命,与诸如摩擦、磨损、磨蚀、腐蚀、气蚀、高温氧化、渗漏和疲劳有直接关系,因此迫切需要固体润滑膜。用真空蒸镀、离子镀、溅射三种方法获得的固体润滑膜已在航空航天设备的各种仪器、齿轮、螺丝、轴承以及滑动部件中得到广泛应用。作为防腐涂层,离子镀Al已成功用于飞机、宇宙飞船的各种异型部件,代替氢脆敏感的电镀Cr层和在太空中易挥发的涂层。潮湿试验表明,离子镀铝抗蚀层远比电镀镍和电镀金性能优越。
  
  在电子学方面,真空镀膜技术是集成电路向高集成度、高性能、高可靠和高生产率发展的重要保证。有人估计,大规模集成电路有一半工序必须在真空条件或真空设备中进行,而在研制超大规模集成电路时,所需真空工艺和设备则占了75%以上。
  
  在能源科学方面,正在研究的有各种结构的薄膜太阳能电池,如非晶硅、III-V族(如CaAs)、Ⅱ一Ⅳ族化合物(如Cds-Cu2S)薄膜太阳能电池等。CdS-Cu2S薄膜太阳能电池具有工艺简单、成本低廉的特点,是一种有希望在地面大量应用的太阳能电池。在便宜的基板上真空沉积一层InP、CaAs等多晶半导体的薄膜,可用于太阳能电池或地面用太阳能发电系统。在石英玻璃基板上真空沉积一层SnO2、In2O2、CaO筹金属氧化物的薄膜,可用作太阳能集光器。
 
  在受控热核反应堆的试验装置中,一些高熔点,低原子序数材料的镀层(如TiB2、B3C、TiC等)用于高温和表面保护。用离子镀在反应堆燃料元件表面镀上防腐蚀的铝膜等。
  
  在超导领域,有快速蒸发、低温凝聚的InSb非晶超导膜,高纯度Nb超导溅射膜以及Nb-Ge系、Nb-(Cu)系、V-Hf -Zr系超导膜等。
  
  在声学应用方面,ZnO薄膜是一种优良的压电薄膜材料,它具有机电耦合系数大,温度性能好,容易在各种非压电基片上形成择优取向等优点。
  
  除了上述应用之外,真空镀膜技术在激光同位素分离、复印技术、红外技术、包装、装饰、手工艺制品、催化以及敏感测量元件等方面都有重要的用途。
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